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簡要描述：Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術生產(chǎn)。反射鏡的設計波長包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-22訪 問 量：1593詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光鏡
Eksma 適用于飛秒應用的高功率激光反射鏡
高損傷閾值激光鏡，專為飛秒激光器設計。使用的IBS鍍膜技術生產(chǎn)。
產(chǎn)品介紹
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術生產(chǎn)。反射鏡的設計波長包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。
在ISO標準21254-2 1000-on-1條件下，以50 fs脈沖，100 Hz在反射鏡設計波長下測量激光誘導的損傷閾值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
設計波長 - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
041-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
設計波長 - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0515T6HHR | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0515T6HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設計波長 - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0800T6HHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800HHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12HHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設計波長 - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
081-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
081-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
設計波長 - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-1030T6HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
041-1030T6HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 離子束濺射（IBS） |
附著力和耐久性 | 根據(jù)MIL-C-675A，不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過直徑的85％ |
鍍膜表面平整度 | 透明孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
激光引起的損傷閾值 | 在設計波長，50 fs脈沖，100 Hz下測量 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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