CVD鑽石光學元件

CVD鑽石光學元件

多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長期以來一直被認為是各種應用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導熱性使它在熱管理應用中非常有用。其廣泛的光學傳輸范圍使金剛石窗口能夠進入半導體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應用開發(fā)開辟了一個完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒有電子陷阱，使其成為高能應用中使用的超敏感核探測器的理想材料。

通過等離子體化學氣相沉積法生長，II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過優(yōu)化，充分利用了使鉆石成為超級材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長與較*的光學級加工相結合，通過整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開發(fā)的強烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場客戶密切合作。

透明窗和光學器件

在II-VI ，光學金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學質(zhì)量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。

通過利用制造和涂層方面的核心技術，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌，這對下一代半導體制造的*光刻工具至關重要。

熱管理解決方案

通過調(diào)整我們的生長過程，II-VI ，已經(jīng)開發(fā)出為各種高性能熱管理應用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導率的規(guī)格范圍高達2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設施，我們能夠根據(jù)客戶的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設備的優(yōu)良的熱接觸。

微波透明光學器件

II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學產(chǎn)品，在微波區(qū)域是透明的。結合我們內(nèi)部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經(jīng)準備好滿足核聚變研究等領域?qū)ξ⒉ㄍ该鞑牧系男枨蟆?/p>

加工解決方案

II-VI 已經(jīng)開發(fā)出一種金剛石薄膜，在加工較堅硬的材料時，擁有堪稱典/范的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術與我們內(nèi)部的激光制造設施相結合，我們能夠以有競爭力的價格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。

核檢測器解決方案

使用精細調(diào)整的超高純生長工藝，II-VI ，生長出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結果。

主要的CVD鉆石應用

CVD金剛石的應用包括多光譜激光光學、介電窗、散熱片等。

金剛石是各種應用的終/極材料，因為它具有出色的性能，包括極/強的硬度和強度、高導熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學傳輸。

我們在較*的生長和制造設施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學氣相沉積工藝生長，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶的要求對表面進行加工。我們還提供其他特殊的制造服務，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學組件的設計和制造。II-VI ，專門為金剛石基片提供*的光學涂層，包括單波長或多光譜應用的AR、HR和TFP。

II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。

用于工業(yè)激光應用的高功率_CO2激光窗口（10微米范圍）。

用于工業(yè)或研究應用的高功率多光譜激光窗口。

用于聚變和定向能應用的高功率mm波窗口

用于極/端熱管理應用的熱擴散器

用于需要超硬材料的機械應用的產(chǎn)品。

主要的CVD鉆石應用

_CO2激光窗(10.6µm)

- 高功率工業(yè)激光器

高功率微波窗

- 陀螺儀、聚變反應堆

- 雷達、定向能應用

熱管理

- 散熱器

物理特性

制造能力*

熱性能（熱級材料）

光學特性（光學級材料）*

微波級材料

*這代表標準生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。